如何掌控真空鍍（dù）膜的均勻性
我們先來認（rèn）識下怎麽調試鍍膜（mó）機，因為掌握（wò）調試鍍膜機（jī）是使用鍍（dù）膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機（jī）
1、測試（shì）設備的抽真空速度，在測試過（guò）程中檢查漏氣情況與（yǔ）各真空泵的性能；
2、測試設（shè）備的密封（fēng）性能，就是抽到（dào）極限後保壓1小（xiǎo）時看壓降是否達（dá）標，同時排除細小的漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性能，比如（rú）傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的話就繼續打樣並（bìng）作測試。
5、所有的測（cè）試應作記（jì）錄，並有記錄人簽字（zì）以及有使（shǐ）用部門或工程部門的人確認簽字

怎（zěn）麽掌控真空鍍膜的均勻（yún）性？
由於車燈鍍膜機原理（lǐ）的不同分為很多種類，僅僅因為都需（xū）要高（gāo）真空度而擁有統一名稱。所以對（duì）於不同原理的真空鍍膜，影響均勻（yún）性的因素也不盡相同。並且均勻（yún）性（xìng）這個概念本身也會隨著鍍膜（mó）尺度和薄膜成分而有著不同的意（yì）義，下麵分別說一下：

均勻性（xìng）主要（yào）體現在3方麵：
1、厚度上的均勻性（xìng），也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上（shàng）看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜（mó）的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度（dù）控製（zhì）在（zài）可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子（zǐ）鍍膜機的光學特（tè）性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如（rú）果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表麵平整，是現在真空（kōng）鍍膜中主要的技術含量與技術瓶（píng）頸所在。
2、化（huà）學組分上的（de）均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易的產生不均（jun1）勻（yún）特性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺（jiàn）射鍍膜機過程（chéng）不科學，那麽實際表麵的（de）組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的（de）技術含量所在。
3、晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶（jīng），是真空鍍膜技術中的熱點問（wèn）題。 

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