化學氣相沉積是一種製備材料（liào）的氣相生長方法，它是把（bǎ）一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基（jī）材的反應室，借助空間氣相化學反應（yīng）在（zài）基體表麵上沉積固（gù）態薄膜的（de）工藝（yì）技術。化學氣相沉（chén）積(Chemical vapor deposition，簡稱CVD)是反應物質在氣態條件下發生化學（xué）反應，生成固態物質沉積（jī）在加熱的固（gù）態基體（tǐ）表麵，進而製得固體材料的工藝技術。它本質（zhì）上屬於（yú）原子範（fàn）疇的氣態傳質過程。與之相對的是物理氣相沉積（PVD）。