一. 鍍層附（fù）著性能好 

普通（tōng）真空鍍膜時，蒸發料粒子大約隻（zhī）以一個電子伏（fú）特的能量向工件表麵蒸鍍，在工件表（biǎo）麵與鍍層之間，形成的界麵擴散深度通常僅為（wéi）幾百個埃（āi）（10000埃=1微（wēi）米=0.0001厘米）。也就是說比一根頭發絲的（de）百分之一（yī）還要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層，好似（sì）截然分開。而離子鍍時，蒸發料粒子電離後具有（yǒu）三千到五千電子伏特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當於一個氣喘（chuǎn）籲籲的長跑運動員，那麽離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客，當其高速轟擊工件時，不但沉積速度（dù）快，而且能夠穿透工（gōng）件表麵，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界麵擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。對離子（zǐ）鍍後的試件（jiàn）作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生。

二.繞鍍能力強

離子鍍時，蒸（zhēng）發料粒子是（shì）以帶電離子的形式（shì）在電場中沿著電力（lì）線方（fāng）向運動，因而凡是有（yǒu）電場存（cún）在（zài）的部位，均能獲得良（liáng）好鍍層，這比普（pǔ）通真空鍍膜隻能在直射方向上（shàng）獲得鍍層優越得多。因此，這種方法非常適合於鍍複零件上的內孔、凹槽和（hé）窄縫。用普（pǔ）通真空鍍膜隻能鍍直射表麵，蒸（zhēng）發料粒子尤（yóu）如攀登（dēng）雲梯一樣，隻順梯而上；離子鍍則能均勻地繞鍍（dù）到零件的背麵和內孔中，帶電離子則好比坐上了直（zhí）升飛機，能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑範圍內的任何地方（fāng）。

三（sān）. 鍍層質量好

離（lí）子鍍（dù）的鍍層組織致密（mì）、無針（zhēn）孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱麵和凹槽都可均勻鍍複，不致形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也能（néng）鍍複，由於（yú）這種工藝方法還能修補工件表麵的微小裂紋和麻點等缺陷，故可有效地改善（shàn）被鍍零件的表（biǎo）麵質（zhì）量和物理機械性能。疲勞試驗表明，如果處理得當，工件疲勞壽命可比鍍前高百分之二、三十（shí）.