真空鍍膜設備多弧離子（zǐ）鍍膜上的創新方法，所（suǒ）謂多弧離子鍍膜（mó）就是置待鍍材料和被鍍基板於室內，

真空鍍膜機多弧離子鍍膜采（cǎi）用（yòng）一（yī）定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，並飛行濺（jiàn）射到被鍍基板表麵凝聚成膜的工藝（yì）。

多弧（hú）離子鍍膜（mó）的方法，在條件下成膜有很多優點，可（kě）減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中於分子的碰（pèng）撞，

減（jiǎn）少氣（qì）體（tǐ）中的活性分子和蒸發源（yuán）材料間的（de）化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的（de）附著力。

真（zhēn）空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表麵處理的不足，且各項技術指標都優於傳統工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有（yǒu）廣泛應用。

催化液和傳統處理工藝相比，在技術上有哪些創新？

1、多弧離子鍍（dù）膜不用電、降低了成本、成本僅（jǐn）為多弧（hú）離子鍍膜鎳的二分之一（yī），真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的（de）三分之一，不鏽鋼的四分之一，可反複利用，大大降低了成本。