磁控濺射鍍膜技術介紹
作者： 來源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人氣：19104
磁控濺射鍍（dù）膜設備是一種具有結構簡單、電器控製穩定性好等優點的（de）真空鍍膜（mó）機，其工藝技（jì）術的選擇對薄膜的（de）性能具有重要（yào）影響。
磁控（kòng）濺射鍍膜技術在陶瓷表麵裝飾中采用的工藝流程如下：
陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽本底真空（kōng）→濺射(或多次（cì）濺射)→鍍AF膜（mó）→破真空（kōng）卸片→表（biǎo）麵檢（jiǎn）驗→性能測試→包裝、入庫。
以上工藝（yì）技術是（shì）以磁控濺射鍍膜設（shè）備為基礎（chǔ），選用合適的靶材和濺射工藝，製出超（chāo）硬的耐磨鍍層，可以實現材料的（de）高（gāo）硬度（dù）、高耐磨、高耐劃傷（shāng）特（tè）性；
同時，利用NCVM光學膜結構設（shè）計，設計出各層不同（tóng）折射率材料，可以調配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時（shí）尚、美觀的特（tè）點，而且不會屏蔽電磁信號。
磁（cí）控濺射鍍膜設備配合（hé）NCVM工藝，能夠實現對於陶瓷電子消費品的表麵裝飾處理，在保證（zhèng）陶瓷強度和硬度的同時，也能夠提升（shēng）其美觀（guān）性和藝術性（xìng），更好地滿足消（xiāo）費者的個（gè）性化需求。
微信（xìn）掃一掃 關注浦元最新動態！
