對於真空鍍膜機設備的分類，到底了解多（duō）少（shǎo）？
真空（kōng）鍍膜（mó）機主要指一類需要（yào）在較高真空度下進行的（de）鍍膜設備，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。

主（zhǔ）要是分成蒸發和濺射兩種。
在真（zhēn）空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍（dù）的（de）材料被成為靶材。
基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一（yī）般是加熱（rè）靶材使表麵組分以原子團或離子（zǐ）形式被蒸發出來，並且沉（chén）降在基片表麵，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜機對於濺射類鍍膜，可以簡單理解（jiě）為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離（lí）子形式被濺射出來，
並且（qiě）最終（zhōng）沉積在基片表麵，經曆成膜過（guò）程，最終形成（chéng）薄（báo）膜。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或（huò）它們的組合（hé）製成的（de）雙層水冷結構。

根據工藝要求選擇不同（tóng）規（guī）格及類型鍍膜（mó）設備，其類（lèi）型有電阻蒸發真空鍍膜設備、電子（zǐ）束蒸發真（zhēn）空鍍膜設備、
磁控濺射（shè）真空鍍膜（mó）設備、離子鍍真空鍍（dù）膜設備、磁控（kòng）反應濺射真空鍍膜（mó）設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
夾具運轉形（xíng）式有自轉、公轉及公轉+自轉方式，用戶可根據片尺寸及形狀提（tí）出相應要求，轉動的速度範圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。