真空蒸鍍、濺鍍、離子鍍 

真空鍍主要包（bāo）括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾（jǐ）種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾（liú）或濺射等方（fāng）式在塑（sù）件表麵沉積各種金屬和非金屬薄膜（mó），通過這樣的方式可以得到非常薄的（de）表麵鍍層，同時具有（yǒu）速度快附著力好的突出優點，但是（shì）價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般（bān）用來作（zuò）較高檔（dàng）產品的功能性鍍（dù）層。

真空蒸鍍（dù）法是在高真（zhēn）空下為金屬加熱，使其（qí）熔融、蒸發，冷卻後在樣品表麵形成（chéng）金屬薄膜的方法（fǎ）,鍍層厚度為0.8-1.2um。將成形品表麵的微小凹凸部分填（tián）平，以獲得如鏡麵一樣的表麵，無任是為了得（dé）到反射鏡作用而實施真空蒸鍍，還是對密接性（xìng）較低的奪鋼（gāng）進行真空蒸鍍時，都必須進行底麵塗布處理。

濺鍍通常指的是磁控濺鍍，屬於高速低溫濺鍍法。該（gāi）工藝要求真空度在1×10-3Torr左右（yòu），即1.3×10-3Pa的真空狀態充入惰性氣體氬氣（Ar），並在塑膠基材（陽極）和金屬靶（bǎ）材（陰極）之間（jiān）加上高（gāo）壓直流電，由於輝光放電（glow discharge）產生的電子激發惰（duò）性氣體，產生等離子體，等（děng）離子體將金屬靶材的原（yuán）子轟出，沉積在塑膠（jiāo）基材上（shàng）。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導（dǎo）電的陶磁材料則使（shǐ）用RF交流濺鍍。

離子鍍是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被（bèi）蒸發物質部分電（diàn）離，並在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下，將蒸發物質或其反應物沉積在基（jī）片上的方法。其中包括磁控濺射離（lí）子鍍（dù）、反應離子鍍、空心陰極放電（diàn）離子（zǐ）鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子（zǐ）鍍（陰極電弧離子鍍）等。