濺射靶材： 濺射靶材按形狀分類：矩形平麵靶材、圓形平麵靶材、圓柱（zhù）靶材

濺射靶材按成分分類：單質金屬靶材、合（hé）金靶材、陶瓷靶（bǎ）材（cái）

平（píng）麵（miàn）靶材利用率比較低（dī），隻有30%左右，沿著環形跑道刻蝕。 

靶材（cái）冷卻與靶（bǎ）背板 

1. 靶功率密度與靶（bǎ）材（cái）冷卻：靶功率越大（dà），濺射速度越大；靶允（yǔn）許的功率與靶材的性（xìng）質及冷（lěng）卻有關；靶材（cái）采用（yòng）直接水冷，允許的靶功率高。

2. 靶背板 target backplane

使用場合：ITO,SiO2,陶瓷等脆性靶材及燒結靶材Sn(錫）, In（銦（yīn））等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質要求：

導熱性好---常用無氧銅，無氧銅的導熱性比（bǐ）紫銅好；強度足夠---太薄，容易變形，不易真空密封。 

結構： 

空心或者（zhě）實心結構---磁（cí）鋼不泡或泡在冷水中；厚度適當---太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。