用來進行介質膜的濺射，如在玻璃上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴（kuò）散隔離層（céng），該SiO2膜就是采用射頻濺射。
通常在濺射（shè）過程中輝光放電中的離子撞擊到陰極時，會與陰極的電子中和，是的濺射現象可（kě）以繼（jì）續進行。
但若靶材本身（shēn）不導電的話，離子撞擊（jī）到靶材上沒有電子中和，
正電荷（hé）一直累積（jī），使與後來的離子排斥，這（zhè）會造成（chéng）取代直流電源，使可解決此離子撞擊現象的停頓。
微信掃（sǎo）一掃 關注浦元最新動（dòng）態（tài）！用來進行介質膜的濺射，如在玻璃上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴（kuò）散隔離層（céng），該SiO2膜就是采用射頻濺射。