磁控濺射真空（kōng）鍍膜機需要鍍膜的被稱為（wéi）基片（piàn），鍍的材料被稱為靶材（cái）。 基片與靶材同在（zài）真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使（shǐ）表麵組分以原子團或離（lí）子形式被蒸發出來。並且（qiě）沉降在基片表麵，通過成（chéng）膜過程（散（sàn）點－島狀結構-迷走結構-層狀生（shēng）長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可（kě）以簡單理解為利用電子（zǐ）或高能激光轟擊靶材（cái），並使表麵（miàn）組分（fèn）以原子團或離子形式被濺射出來（lái），並且最終沉（chén）積在基片表麵，經曆成膜過程，最（zuì）終形成（chéng）薄膜。

使用步驟：
電控櫃操作
1、開水泵、氣源。
2、開總（zǒng）電源。
3、開維（wéi）持泵、真空計電源，真空計檔（dàng）位置V1位置，等待其值小於10後，再進入下一步（bù）操作。約需5分鍾。
4、開機械泵、預（yù）抽，開渦輪分子泵（bèng）電源、並啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小於2為止，約需（xū）20分鍾。
5、觀察渦（wō）輪分子泵讀數到達250以後，關預抽，開前級泵（bèng）和高真空閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度後才能開右邊（biān）的高（gāo）真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以後才能打開電子（zǐ）槍（qiāng）電源。

DEF-6B操作：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控製Ⅰ和電子槍控製Ⅱ電源：按（àn）電子（zǐ）槍控製Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鍾後延時及（jí）保護燈滅，若後門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮（liàng）。
3. 開高（gāo）壓，高壓會達到10KV以上，調節束流（liú）可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

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