如何掌控真空（kōng）鍍膜的均（jun1）勻性
我們先來認（rèn）識下怎麽（me）調試鍍膜機（jī），因為掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的關鍵（jiàn）怎（zěn）麽調試鍍膜機（jī）
1、測（cè）試設（shè）備的（de）抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；
2、測（cè）試設備的密封性能，就是抽到極限後保壓1小時看壓降是否達（dá）標，同時排除細小的漏（lòu）孔；
3、產品試作，檢驗其（qí）他（tā）的性能，比如傳（chuán）動、加熱、絕緣（yuán）等等；
4、如果有（yǒu）工藝保證的話就繼續（xù）打樣並（bìng）作測（cè）試（shì）。
5、所有的測試應作記錄，並有記錄（lù）人簽字以及有使用部門（mén）或（huò）工程（chéng）部門的人確認簽字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜（mó）機原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統（tǒng）一名稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。並且均勻性這個概念本身也會隨（suí）著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下麵分別說一下：

均勻性主要體現在3方麵：
1、厚度上的均勻性，也（yě）可（kě）以理（lǐ）解為粗糙度，在光學薄膜（mó）的尺度上看（也就是1/10波長作為單位（wèi），約為100A），真空鍍膜的均勻（yún）性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子鍍膜機的光學特性來（lái）說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是（shì）指原子層尺度上的均勻度（dù），也就是說要實現10A甚至1A的表麵平整，是現（xiàn）在真空（kōng）鍍膜中主要（yào）的技術含量與技術瓶頸（jǐng）所在。
2、化學組分上（shàng）的均（jun1）勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會（huì）由於（yú）尺度過小（xiǎo）而很容易的產生不均勻特性（xìng），SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機過程（chéng）不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分（fèn），這（zhè）也是真空鍍膜（mó）的（de）技術（shù）含量所在。
3、晶格有（yǒu）序度的均勻性（xìng）：這決（jué）定了薄膜是單晶，多晶，非（fēi）晶，是真空鍍膜技術中的（de）熱點問題。 

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