真空蒸發鍍（dù）膜法（簡稱真空蒸鍍（dù）法，Vacuum Evaporation) 是（shì）指在一（yī）定的真空條件下，利（lì）用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬（shǔ）氧化物（wù））到一定溫度條件下， 

使（shǐ）其原子或（huò）分子從表麵汽化逸出，形（xíng）成蒸汽流，並飛行濺射到玻璃基板表麵凝（níng）結形成固態薄膜的方法。

由於真空蒸鍛法的（de）主要物理過程是通過加（jiā）熱蒸發（fā）材料而產生，所以又稱熱蒸發法。蒸發源作為蒸發裝置的關鍵部件，

大多數蒸發材料都要求在（zài）1000-2000℃的高溫下蒸（zhēng）發。真空蒸（zhēng）鍍法按蒸發（fā）源的不同可分為（wéi）電阻法（fǎ）、電子束蒸（zhēng）發（fā）法、高頻（pín）感應法和激光蒸發法等。