浦元真空帶你（nǐ）了解真空蒸（zhēng）發鍍（dù）膜法的概念：

1.基本原理：真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍）是在真空室中加熱蒸發容器中待形成薄膜的原（yuán）材料使（shǐ）其原子或分子從表麵氣化逸出，形成蒸汽流入射到固體（稱為（wéi）襯（chèn）底或基片）表麵凝結形成固態薄膜的方法。 

2.真空蒸鍍時尤其是（shì）對真（zhēn）空環境的要求（qiú）更嚴格其原因有：

A.防止在高溫下因（yīn）空氣分（fèn）子和蒸發源發生（shēng）反應；

B.防止因蒸發物質的（de）分子在鍍膜室內與空氣分子碰撞（zhuàng）；

C.防止空氣分子作為雜質混入膜內或者在（zài）薄膜中形成化合（hé）物；

3.設備：真空鍍膜室和（hé）真空抽氣係（xì）統兩大部分組（zǔ）成。真空鍍膜室內裝有蒸發源、被蒸鍍材料、基片支（zhī）架及（jí）基片等。