濺射靶材具（jù）有高純度、高密度、多組元、晶粒（lì）均勻等特（tè）點（diǎn），一般由靶坯（pī）和背板組成。

靶坯屬於濺射靶材的核心部分，是高速離子束流轟擊的（de）目標材料。

靶坯被離子撞擊後，其表麵（miàn）原子被濺射飛散出（chū）來並沉積於基板上製成電子薄膜。

由於高純度金屬（shǔ）強度（dù）較低，因此（cǐ）濺射靶材需要在高電壓、高真空的機（jī）台環境內完成濺射過程。

超高純金（jīn）屬的濺射靶坯需要與背板通（tōng）過不同的焊接工（gōng）藝進行接（jiē）合，背板起到主要起到固（gù）定濺射靶材的（de）作（zuò）用（yòng），且需要具備良好的導電、導熱（rè）性能。