真空蒸發（fā）鍍膜是指在真空條（tiáo）件下，通（tōng）過蒸發源加熱蒸（zhēng）發某種物質使其沉積在基板（bǎn）材料表麵來獲得薄膜的一種技（jì）術。

被蒸發的物質被（bèi）稱為蒸鍍材料。蒸發鍍膜最（zuì）早由（yóu） M.法拉第在（zài） 1857年提出，經過一（yī）百多年的發展，現已成為主（zhǔ）流鍍膜（mó）技術之一。

真空（kōng）蒸發鍍膜係統一般（bān）由三個部分組成：真空（kōng）室、蒸發源或蒸發（fā）加熱裝置（zhì）、放置基板及（jí）給基板加熱裝置。

在真空中為了蒸（zhēng）發待沉積的材料，需要容器來支撐或盛裝（zhuāng）蒸發物，同時需要提（tí）供蒸發熱使蒸發物達到足夠高的溫度（dù）以產生所需的蒸汽壓。

真空蒸發（fā）鍍（dù）膜技術具有簡單便利、操作方便、成膜速度快等（děng）特點，是應用廣泛的鍍膜技術，主要應用於光學元器件、LED、平板顯示和半（bàn）導體分立（lì）器的鍍膜。

真（zhēn）空鍍（dù）膜材料按照化學成分主要可以分（fèn）為金屬/非金屬（shǔ）顆粒（lì）蒸發料，氧化物蒸發料，氟化物蒸發料等。