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真空鍍膜(mó)設(shè)備氣體分布

作者: 來源: 日期:2020-11-16 10:09:43 人(rén)氣:33122

氣體的分布狀況對於平板基片鍍膜來(lái)說是極其重要的(de),通過機械結構設計(jì),使氣體密度的變化(huà)率在濺射沉積區域內(nèi)的盡量小。

而在區域外,使係(xì)統的流(liú)導盡量的大,以提高氣體(tǐ)的利用率和抽氣係統的效率。

控製氣體分(fèn)布的(de)機械部件或結(jié)構包括布氣係統、真空室(shì)的結構、抽氣係統等三個部分。

下一個(gè):鍍膜工藝設計
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