什麽是PVD 技術 

PVD-物（wù）理氣相沉積（jī）：指利用物理過程實現物質轉移，將（jiāng）原子或分子由源轉移到基材表（biǎo）麵上的過（guò）程。

它的（de）作用是可以使某些有特殊性能（強度高（gāo）、耐磨性、散熱性、耐腐（fǔ）性等）的微粒噴塗在性（xìng）能較低的母體上（shàng），使得母體具有更好的性能。

PVD基本方法：真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離子（zǐ）鍍、熱陰極離（lí）子鍍、電弧離子鍍、活性反應離（lí）子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

PVD 技術是目前國際上科技含量高且（qiě）被廣（guǎng）泛應用的（de）離子鍍膜技術（shù），它具有 鍍（dù）膜層致（zhì）密均勻、附著力強、鍍性好、沉積速度（dù）快（kuài）、處理溫度低、可（kě）鍍材料廣泛等特（tè）點.

PVD 本（běn）身鍍膜過程是高溫狀態下（xià），等離子場下的輝光反應，亦（yì）是一個高（gāo）淨化處理過程；鍍層的主（zhǔ）要原材料是以鈦金屬為主（zhǔ），鈦是金屬（shǔ）中最（zuì）與人（rén）體皮（pí）膚具親和性能的，使得PVD 產品本身（shēn）具備純（chún）淨的環保性能。