CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工（gōng）作原理，所謂“濺射”就是用荷能（néng）粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表麵原子從母體中（zhōng）逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電（diàn）場和對數電場則分別用於平麵靶和同軸圓柱（zhù）靶。電子在（zài）電場作（zuò）用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時（shí），則電離出Ar+並（bìng）產生電子，電子飛向基片，Ar+在電（diàn）場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能（néng）量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於（yú）家電電器、鍾（zhōng）表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及（jí）儀（yí）器（qì）儀（yí）表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜（mó）及工模具的功（gōng）能塗層，在鍍（dù）製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等（děng）領域有優勢（shì）。

1）、膜厚可控性（xìng）和重複（fù）性（xìng）好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄（báo）膜，並且濺（jiàn）射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分（fèn）高（gāo）能量（liàng）的濺射原子產生不同（tóng）程度（dù）的注入現象，在基片上形成一層濺射（shè）原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊（shū）材料的（de）薄膜，可以使用不（bú）同的（de）材料同時濺射製備混合膜、化合（hé）膜（mó），還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度（dù）高，濺（jiàn）射（shè）膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔（fǔ）助源，無需（xū）加熱直接常（cháng）溫冷鍍成膜，節能省電（diàn），提高產能。