GSF係列高精密(mì)電子束蒸發光學真(zhēn)空鍍膜機
日期:2016-01-13 10:18:51 人氣(qì):26272
GSF高精密(mì)電子束蒸(zhēng)發光學真空鍍膜機的工作原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直接(jiē)利用電子束加熱,使膜(mó)材中的原子或分子從表麵(miàn)汽化逸出後入射到基片表麵凝結成膜。電子束蒸發比一般電阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快,製成的(de)薄膜純度高。
光學鍍(dù)膜設備可鍍(dù)製層數較多的短波通(tōng)、長波通、增透膜、反射膜、濾光(guāng)膜、分光膜、帶通膜、介質膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜係,能夠實現0-90層膜的膜係鍍(dù)膜,也能滿足如汽車反(fǎn)光玻(bō)璃、望遠鏡、眼鏡片、光(guāng)學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配(pèi)置不同的蒸發源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種膜係,對金屬、氧化物(wù)、化合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍。
1)、高精密光學(xué)鍍膜機配(pèi)備有石英晶體膜厚儀、光學膜厚自動控製係統,采用PLC與工業電腦(nǎo)配合自主研發的PY3100係統聯合(hé)實現對整個工作過程的全自動控製,可(kě)以實現(xiàn)無人值守,從而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。
2)、大抽速真空係統加配深冷裝置(zhì),優秀的動態真空能力,為複雜(zá)的光學膜係製(zhì)備(bèi)提供了必要的真空條件保障。
3)、蒸發分布穩定、性能可靠的E型電(diàn)子槍,優化設計的蒸發源與工件(jiàn)架之間的位置關係,為精密膜係(xì)的實現調工了膜料蒸發分布方麵的保障。
4)、平穩而高速旋(xuán)轉的工件架轉(zhuǎn)動係統,使(shǐ)工件架內外圈產品光譜曲線更趨於一致。
5)、適用於光學領域行業,大(dà)規模工業生產高端要求的廠商使用。
GSF高精密電(diàn)子束蒸(zhēng)發光學真空鍍膜機 |
型號 | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空室尺寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機組 | KT630擴散泵機組(zǔ) | 雙(shuāng)KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | KT500擴散泵機(jī)組 | KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 |
鍍膜係統 | 電子槍蒸發源、鍍膜輔助離子專用電源或霍爾離子(zǐ)源 |
充氣係統 | 壓強控製(zhì)儀 |
控製(zhì)方式 | 半自動或全自動 |
膜厚監控係統 | 石英晶(jīng)體膜(mó)厚監控係統、光學膜(mó)厚監控係統(tǒng) |
抽氣速率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限真空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以上設備參數僅做參考,具體均按(àn)客戶實際工(gōng)藝要求設計訂做 |