CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的（de）磁控濺射（shè）工作原理，所謂“濺射”就是用荷能粒（lì）子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表麵（miàn）原子從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種（zhǒng）現（xiàn）象。磁控濺（jiàn）射靶采用（yòng）靜止電磁場，磁場（chǎng）為曲線形，均勻電場和（hé）對數電（diàn）場則分別用於（yú）平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基（jī）片的（de）過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向（xiàng）基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表（biǎo）麵，使靶材發（fā）生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及（jí）儀（yí）器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層（céng），在鍍製超黑膜、純（chún）金裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性（xìng）和重複性好（hǎo）。能夠（gòu）可靠的鍍製預定厚（hòu）度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形（xíng）成一層（céng）濺（jiàn）射（shè）原子與基片原子相互溶合的偽擴散（sàn）層（céng）；
3）、製備特殊（shū）材料（liào）的薄膜，可以（yǐ）使（shǐ）用不同的材料同時濺射製備混合膜（mó）、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜（mó）層純度高，濺射膜層中不會混入坩（gān）鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫（wēn）離子輔助源，無需加（jiā）熱直接常（cháng）溫冷鍍成膜，節能省電，提（tí）高產能。