離子（zǐ）鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化（huà），在（zài）氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同（tóng）時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者（zhě）有機結合起來，不（bú）僅能明（míng）顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜（mó）的應用範圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣（guǎng）泛等。多弧離子鍍與一般的離子鍍有著（zhe）很大的區別。多弧離（lí）子鍍采用的是弧光放電，而並不是傳統離（lí）子鍍的輝光放電進行沉（chén）積。簡單的（de）說，多弧離子鍍的（de）原理就是（shì）把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽（yáng）極殼體之（zhī）間的弧光放電，使靶材（cái）蒸發，從而在空間中形成等離子體，對基體進行沉（chén）積。

可以鍍製（zhì）不鏽鋼（gāng）、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍製合金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式多弧離子鍍膜機主（zhǔ）要針（zhēn）對大麵積五金工件鍍裝飾膜或者（zhě）功能膜，適合於在（zài）不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽鋼門等工（gōng）件表麵鍍膜。

1)、此類設備真空室最大尺寸能實現 φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型板材、管材（cái）上鍍製各（gè）類裝飾膜層（céng）及功能（néng）膜膜層的適合設備。